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半导体行业解决方案
匀胶显影
匀胶显影
匀胶显影中，Supermag®磁悬浮晶圆转台为光刻胶的旋匀提供稳定的速度和加速度，使匀胶工艺更精确
RTP
RTP
RTP工艺中，Supermag®磁悬浮晶圆转台完美解决了真空腔体密封问题，且不产生摩擦颗粒，保证工艺良率
湿法刻蚀
湿法刻蚀
刻蚀工艺中，Supermag®磁悬浮泵为刻蚀液提供稳定的流量，提高刻蚀的可控性和均匀性
干法刻蚀
干法刻蚀
Supermag®磁悬浮涡轮分子泵无油无摩擦，可以提供超洁净、高真空环境，最小程度减小环境中的物质对于反应的影响，从而更好的控制反应，提高刻蚀的质量
离子注入
离子注入
离子注入工艺中，空气中的杂质会造成离子注入机损坏，因此需要满足高真空度。Supermag®磁悬浮涡轮分子泵具有密封性好、高真空、高洁净、排气速度快等优点，可确保离子注入生产过程中的纯净度和稳定性
薄膜沉积
薄膜沉积
Supermag®磁悬浮涡轮分子泵不存在传统机械轴承的油气污染问题，无机械摩擦，可以实现高洁净、高真空环境，使沉积的薄膜表面更光滑，提高薄膜的质量和性能。
湿法清洗
湿法清洗
单片清洗阶段，Supermag®磁悬浮晶圆转台完全避免腔体动密封，中空转子易布局，大大优化了单片腔体设计 超纯洁净是单片清洗阶段的核心工艺要求，Supermag®磁悬浮泵可提供超洁净且流量稳定的清洗液喷涂，使清洗效果最佳
电镀
电镀
在电镀工艺中，Supermag®磁悬浮泵提供稳定的电解液流量，保证电镀的均匀性
CMP
CMP
CMP Slurry输送时，传统泵剪切力高会导致颗粒产生，引起划痕。Supermag®磁悬浮泵为晶圆研磨抛光提供稳定的研磨液，剪切小，防结晶效果明显
